NERW 2 PW | Zadanie 39

Opublikowano: 23.08.2022 13:40

Akademia mikroelektroniki, fotoniki i mikrosystemów (MOEMS)

Celem zadania nr 39 ,,Akademia  mikroelektroniki, fotoniki i mikrosystemów (MOEMS)” jest podniesienie kompetencji studentów czterech ostatnich semestrów studiów I i II stopnia Politechniki Warszawskiej w obszarze mikroelektroniki, fotoniki i mikrosystemów (MOEMS) poprzez realizację następujących działań:

Zorganizowanie i realizację kursu podstawowego i kontynuacja szkolenia w ramach kursu zaawansowanego w jednej z dwóch wybranej specjalizacji.

Kurs podstawowy obejmuje takie zagadnienia jak:

1. Podstawowe technologie półprzewodnikowe stosowane w mikroelektronice, fotonice scalonej oraz mikrosystemach (MOEMS)

W ramach tego zagadnienia przedstawione zostaną typowe sekwencje procesów technologicznych, które służą do realizacji układów scalonych (mikroelektronicznych oraz fotonicznych) oraz charakterystyczne dla zastosowań złożonych mikrosystemowych MOEMS). Zajęcia laboratoryjne prowadzone będą w laboratoriach typu clean-room w CEZAMAT z wykorzystaniem unikatowej aparaturze technologicznej - łącznie ok. 66 godzin szkolenia dla każdego uczestnika w formie wykładów, ćwiczeń laboratoryjnych i projektowania.

2. Metody modelowania oraz charakteryzacji i diagnostyki struktur, elementów i układów scalonych

W ramach zajęć omówione zostaną zagadnienia z obszaru modelowania i charakteryzacji elektrycznej struktur i przyrządów półprzewodnikowych, doboru odpowiednich struktur testowych niezbędnych do przeprowadzenia właściwego procesu charakteryzacji technologii. Uczestnicy uzyskają wiedzę na temat sposobów pozyskiwania danych, ograniczeń z nich wynikających, dostrojenia symulatorów technologii do zachowania się konkretnej linii technologicznej - łącznie ok. 63 godziny szkolenia dla każdego uczestnika w formie wykładów, ćwiczeń laboratoryjnych i projektowania.

3. Podstawy projektowania przyrządów i układów scalonych (elektronicznych oraz fotonicznych)

Zajęcia skupiać się będą na pokazaniu wpływu parametrów przyrządów półprzewodnikowych aktywnych i pasywnych na parametry układowe i systemowe. Uczestnicy otrzymają podstawową wiedzę oraz narzędzia konieczne do dalszego kształcenia w zakresie projektowania układów scalonych, zarówno elektronicznych, jak i fotonicznych - łącznie ok. 70 godziny szkolenia dla każdego uczestnika w formie wykładów, ćwiczeń i projektowania.

 

Studenci którzy osiągną najlepsze wyniki szkolenia w  Kursie podstawowym  będą mogli kontynuować dalsze szkolenie na kursie zaawansowanym w jednej z wybranych specjalizacji:

1. Technologia półprzewodnikowa

Uczestnikom przekazana zostanie niezbędna wiedza teoretyczna i praktyczna do prowadzenia samodzielnych prac technologicznych na najbardziej zaawansowanej aparaturze technologicznej, projektowaniu tych procesów i ich optymalizacji pod kątem planowanych zastosowań wytwarzanych struktur, elementów i układów. Tematyka zajęć dotyczyć będzie m.in.: metod wytwarzania warstw o z góry założonych właściwościach, ich modyfikacji (właściwości elektryczne, optyczne, mechaniczne, chemiczne), standardowych metod odwzorowania kształtów (fotolitografia i lift-off), nanolitografii, implantacji jonów oraz możliwości tkwiących w procesach wykorzystujących plazmę -  łącznie ok. 120 godziny szkolenia dla każdego uczestnika w formie wykładów, ćwiczeń laboratoryjnych i projektowania.

2. Zaawansowane metody modelowania oraz charakteryzacji i diagnostyki struktur, elementów i układów scalonych

Zajęcia skupiać się będą na  zaznajomieniu uczestników z zaawansowanymi metodami modelowania/symulacji działania przyrządów półprzewodnikowych oraz zaawansowanymi metodami charakteryzacji i diagnostyki zarówno w zakresie właściwości strukturalnych, optycznych, elektrycznych, jak i składu. W tym także  oceny niezawodności oraz prognozowania czasu poprawnego funkcjonowania-  łącznie ok. 75 godziny szkolenia dla każdego uczestnika w formie wykładów i projektowania.

 

 

Zasady rekrutacji i warunki uczestnictwa:

 

Szczegółowe informacje na temat zasad rekrutacji zostały uwzględnione w Regulaminie rekrutacji – dostępnym po kliknięciu na niniejszy link

 

 

Kontakt:

Kierownik zadania: Romuald Beck

Centrum Zaawansowanych Materiałów i Technologii (CEZAMAT) PW

e-mail: romuald.beck@pw.edu.pl; akademiamoems@cezamat.eu.

 

Zadanie 39 pn. „Akademia  mikroelektroniki, fotoniki i mikrosystemów (MOEMS)” realizowane w ramach projektu „NERW 2 PW. Nauka – Edukacja – Rozwój – Współpraca” współfinansowane jest ze środków Unii Europejskiej w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego.